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中国真的造不出光刻机吗?ASML总裁:中国永远无法模仿EUV光刻机


众所周知,随着中国制造向中国智能制造的转变,中国已经超过美国成为全球最大的芯片消费国,世界芯片制造产业也不可避免地向中国转移。虽然中国每年进口的芯片超过了3000亿美金,正在建设的晶圆厂也达到了57个,芯片产业发展得如火如荼,但是芯片制造最关键的环节光刻机却成了我国芯片产业的发展的死穴。因为中国只能生产90nm以上低端光刻机,而先进的高端光刻机都掌握在国外厂商手里,甚至有钱也买不到。


春节前夕,荷兰ASML总裁Peter Wennink在ASML企业财报发布会上表示:中国永远无法模仿高端光刻机。这句话一方面是在回应美国担心高端光刻机交付中国后可能造成的技术失窃问题,另一方面也是在告诉中国,中国是有着常识产权领域良好信誉的国家,而且中国绕不开ASML的技术专利。长期以来,限于美国和欧洲签订有瓦森那协议,欧洲厂商不得把最先进的光刻机卖给中国,而且必须有美国发放的销售许可证,所以中芯国际2018年订购的最先进的EUV光刻机至今无法起运回国。


那么中国真的造不出高端EUV光刻机吗?答案是肯定的,目前我国确实造不出这样的高端EUV光刻机。虽然中ASML高调表示,即使没有美国的许可证也要卖给中国,但同时也表示:大家正在等待政府的许可证,如果最终等不到许可证,大家会将设备转卖给其他客户。由此看来,大家不仅造不出这样的高端EUV光刻机,即便想买到也没有这么容易,中芯国际订购的光刻机就是一个明显的例子。


高端EUV光刻机制造真的这么难吗?

据了解,ASML的高端EUV光刻机有80000个零部件,13个子系统,每一个子系统都是融合了该领域最顶尖的先进的技术,更何况ASML还拥有全球独一无二的芯片曝光技术,这也是高端EUV光刻机的核心技术。ASML之所以不怕中国模仿是因为他们把全球好几百家厂商的顶尖技术融为一体,进行了有有效的技术和系统集成,而且还在设备上安装有传感器,能够自动检测异常行为,也就是说,你要想深入研究设备的构造和组成,ASML总部就会报警。


目前,全球高端光刻机被ASML、尼康、佳能所垄断,2018年全球高端光刻机总计出货374台,其中ASML的高端光刻机销售量120台,10nm以下的EUV光刻机更是占据了全球100%的市场,甚至就连佳能、尼康几乎已经退出10nm以下光刻机的市场。但是中国芯片产业发展如火如荼,却没有高端光刻机的支撑,这也是为什么中国芯片产业发展缓慢的原因之一。


但是2018年底中科院传来了好消息,中科院光电所研发成功了世界首台紫外超分辨率光刻机,该光刻机采用可通过多重曝光生产22nm芯片。特别值得一提的是,这台光刻机绕过了ASML等对国外光刻机高分辨率装备专利的技术壁垒,从光刻机原理上走出了一条具有自主常识产权的研发路线,为我国先进光刻机的发展打下了良好的技术基础。


虽然这台设备技术上前景很牛,通过多重曝光技术甚至可以生产10nm以下的芯片,要想真正用于芯片制造必须要流程再造,但是有志者事竟成,毕竟商业化之路是很漫长的。尽管如此,这台光刻机的研发成功对我国光刻机进步的意义是不言而喻的,可以说是开辟了有别于国外光刻机的技术路径,实现了中国真正自主创新。


总之,中国芯片产业快速发展,光刻机已成为芯片产业的一只拦路虎,如果大家只是一味地去模仿ASML的技术路径,肯定是不行的。只有下定决心,另辟蹊径,走出一条有别于ASML的技术途径,才有可能生产出真正有自主常识产权的国产光刻机,无疑,中科院光电所给大家做出了榜样,给中国的芯片之路指明了方向。

此文由“科技摆乾坤”发布,2020年02月06日

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