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利害!中国国产芯片有望突破7nm工艺,或许使用EUV光刻机

众所周知半导体芯片技术是当前中国技术发展的焦点所在,也是无数中国居民所密切关注的领域,从历史发展来看,芯片走进大众视野已经有很久一段时间,大家日常生活中所使用的手机等电子智能设备功能的发挥,都要依赖于芯片的控制。

如此重要的一大技术,为何中国现如今才给予关注呢?这是因为多年以来中国企业多从美国等发达国家进口芯片,久而久之形成了依赖心理,如今美国已经翻脸不愿意为我国供给芯片,中国被迫走向了国有芯片的发展之路。

如今看来,在这条道路上,中国技术走的相对坎坷,如今中国国产芯片有望突破7纳米工艺,或许不再使用EUV光刻机,能够制造出最强“中国芯”,这一进展给了中国企业以及中国人民以莫大的支撑。

纵观中国国产芯片的发展,美国的一再干预是阻碍中国技术进步的重要因素,要知道芯片的生产出了需要最为关键的研发技术之外,其生产的复杂流程也是至关重要的,尤其是在光刻这一环节,直接决定芯片的性能高低如何。

然而如今在国际上,拥有高端光刻机生产技术的只有荷兰的ASML企业,中国以中芯国际为代表的芯片生产企业,想要拥有大规模以及先进的芯片生产技术,首要解决的就是光刻机的问题。

之前中芯国际从ASML订购了多款EUV光刻机,将其视为中芯国际推进7纳米芯片供给的重要法宝。然而在美国的一再干预之下,如今看来想要拿到这些光刻机并不容易。

当然我国企业也尝试自主研发光刻机,但是还需要较长时间的技术成长,中国专家也在另辟蹊径,寻求不用光刻机的芯片生产工艺,如今已经找到了多个方向。

比如中芯国际此前推出的N+1工艺,能够有效避开光刻机这一短板,此外我国中科院专家还提出了碳基芯片的生产方向,其技术性能甚至要超出于当前流行的硅基芯片。

好了,今天就为大家先容到这里,大家下一期再见!

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